片状氧化铝微粉平替FUJIMI PWA15抛光粉用于砷化镓晶圆CMP处理
片状氧化铝微粉平替FUJIMI PWA15抛光粉用于砷化镓晶圆CMP处理
片状氧化铝又称平板状氧化铝抛光粉，它的用途是晶圆的抛光研磨表面处理。平板状氧化铝其实是一种通过特殊方法进行长晶的煅烧氧化铝。其煅烧温度问1200度，制成的氧化铝呈片状堆积形态。通过破碎和水洗工艺，将片状氧化铝粉进行分层，制成氧化铝纯度和清洁度更高，颗粒集中度窄、易分散的片状氧化铝微粉。不同的煅烧工艺对片状氧化铝的质量影响很大，质量好的平板状氧化铝晶体结构平整，磨削面无凹凸，颗粒致密度高，硬度高，易分散不会团聚，因此不会对硅片和晶圆造成损伤。片状氧化铝的晶体厚度为2-3um，颗粒直径3-50um。
片状氧化铝微粉/平板状氧化铝抛光粉的特点：
1. 海旭磨料生产的片状氧化铝对标进口产品，可以达到进口片状氧化铝粉的研磨效果。
2. 晶型平整无棱角，研磨时磨粒于工件之间产生平面滑动效果，不易产生划痕。
3. 硬度高，磨削力强。片状氧化铝具有类似于刚玉的α-Al2O3晶相，适用与大多数材料的研磨和抛光。
4. 磁性物含量低，清洁度高，粒径一致性高。
5. 熔点高，机械强度高，磨削效率高。
6. 颗粒大小可控，3-50微米均可获得。
7. 颗粒的平整性使片状氧化铝粉体易于分散，适合制成研磨剂或研磨液。
8. 耐腐蚀、化学稳定性强、抗氧化性能优越，不会于研磨液中的液体介质发生反应。
9. 比表面积大，表面活性和附着力由于电熔刚玉。
10. 片状氧化铝易于分散，粉体不易团聚在晶圆表面造成堆积，影响抛光平整度。
化学成分：
Al2O3 | ≥99.0% |
SiO2 | ＜0.2 |
Fe2O3 | ＜0.1 |
Na2O | ＜1 |
物理性能：
化学成分 | α-Al2O3 |
颜色 | 白色 |
比重 | ≥3.9g/cm3 |
莫氏硬度 | 9.0 |
生产规格：
型号 | D3(um) | D50（um） | D94（um） |
HXTA40 | 39-44.6 | 27.7-31.7 | 18-20 |
HXTA35 | 35.4-39.8 | 23.8-27.2 | 15-17 |
HXTA30 | 28.1-32.3 | 19.2-22.3 | 13.4-15.6 |
HXTA25 | 24.4-28.2 | 16.1-18.7 | 9.6-11.2 |
HXTA20 | 20.9-24.1 | 13.1-15.3 | 8.2-9.8 |
HXTA15 | 14.8-17.2 | 9.4-11 | 5.8-6.8 |
HXTA12 | 11.8-13.8 | 7.6-8.8 | 4.5-5.3 |
HXTA09 | 8.9-10.5 | 5.9-6.9 | 3.3-3.9 |
HXTA05 | 6.6-7.8 | 4.3-5.1 | 2.55-3.05 |
HXTA03 | 4.8-5.6 | 2.8-3.4 | 1.5-2.1 |
用途：
1. 半导体硅晶片、石英晶体、砷化镓晶体研磨液
2. 光学玻璃、光电陶瓷研磨
3. 导热涂料填充
4. 精密油石原材料
5. 抛光砂带砂纸原料
6. 软质金属研磨抛光
7. 耐热耐磨涂层
